现在就已经基本掌握了将精度达到几十纳米的工艺，看起来的确是无比的高端大气上档次……

可别忘了，虽说现在光刻的纳米精度是越来越高，但光刻技术从微米级的精度突破到现在的二三百纳米甚至几十纳米，也不过就十来年的功夫而已！

但在几十年前，列别捷夫研究所所生产的5微米精度芯片，就已经被运用在了和平号空间站上了！

几十年前就已经可以生产5微米的晶片，现在的列别捷夫研究所在光刻技术方面的研究已经发展到了怎样的程度，可想而知！

这么牛逼的研究所，作为一个将光刻这个卡国内脖子的产业视为奇耻大辱的穿越者，杨明岂会不知？

也是因此，可以说当初让王良平等人在老苏家替自己寻找半导体甚至光刻方面的专家，心里头想的其实就是列别捷夫研究所！

只是因为列别捷夫研究所所隶属的单位，是老苏的国防部，稍微有点风吹草动，怕都会引起克勒勃的注意，所以杨明根本不敢轻举妄动……

只是他万万没想到，这自己连想都不敢去想的列别捷夫研究所，王良平等人居然还真找上去了不说，而且看起来还似乎取得了不小的进展——这，杨明岂会不惊？

想着这些，杨明情不自禁的就狠捶了王良平一拳道：“便是我们的国防单位估计都不敢打列别捷夫研究所的主意，你们居然敢在克勒勃的眼皮子底下找上门去——你跟老涂现在这胆子，

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以光刻机为例。

别看现在华芯已经在研究通过放电汞灯辐射紫外将光刻精度从365纳米降低到250纳米，霉帝等国虽然没有宣布，但按照推测，他们可能已经实现了相关方面的研究突破。

而且在250纳米精度被攻克之后，杨明还有一个通过历史记忆得知的，可以在对传统工艺不做太大改变的前提下，实现将光刻精度从250纳米提高到数十纳米精度的工艺。

这个工艺，就是沉浸式光刻！

三十多年后，世界光刻精度依旧还被卡在几纳米的关头上，再无进步。

第700章 列别捷夫研究所 (第2/3页)

他却是想不知道都难。

之所以知道，不仅仅是因为列别捷夫乃是近代最知名的物理学家之一，他的研究发现，几乎改变了近代物理对于光压研究相关的认知这点，更多的还是因为这个实验室的研究，对近代半导体的发展，有着革命性的影响。

别的不说，就说即便现在，列别捷夫研究所在半导体相关技术方面，都还有数项专利，处于全球绝对领先的地位！

除了半导体，其在原子能的利用，以及光刻技术，也都是处于世界领先水平。

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