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第二百八十六章 浸润式光刻机技术路线的独苗

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ASML在157nm干式光刻机上投入了大量费用,如果不是林本坚先说服了台积电的总裁蒋尚义,然后由林本坚出席在布鲁塞尔举办的157nm波长的光刻机技术研讨会上说服了大多数专家。

后来依靠台积电,林本坚完成了浸润式光刻机的可行性研究,ASML压根不会走这一技术路线。

历史的拐点,导致当前全球新芯科技是唯一在浸润式光刻机上投入资源的厂商。

周新根据自己了解到的行业情况,颇有种风云变化的感觉,他带来的影响让ASML进入到了一个前景有限的技术路线里去了。

靠着之前的技术积累,ASML、尼康、佳能靠着干式光刻机和新的光源能在45nm都赶上,但是到了45nm之后,干式光刻机的技术路线一定会出问题,问题就是无论如何优化工艺,良品率都迟迟上不去。

当然不排除,他们跟着新芯科技去走浸润式光刻机的路线,但是这也意味着新芯积累的专利,构建的专利墙可以向他们收高昂的专利费用。

“马克,你好,脸聊做的很不错。”周新回到旧金山之后和扎克伯格见了一面。

脸聊短短两个月时间,在全美的用户数已经成功突破一百万了,创造了手机应用的历史,成为最快达到百万用户成就的非原厂应用。

以至于扎克伯格成为了硅谷的新宠,大量媒体版面把视线放到了这个年轻人身上。

脸聊别具一格的盈利模式,会员分阶梯收费,优化后的脸聊付费分九个档次,价格从1美元到9美元,分别对应不同的档次。

不得不说林本坚的技术嗅觉极其敏锐,极紫外光是芯片制程进入到10nm下的关键技术,而如果继续采取干式光刻机,极紫外光导致的问题无法解决。

当新芯从周新到胡正明再到林本坚,这一条线的人都达成了共识要走浸润式光刻机路线时,新芯在光刻机领域的主要对手们都在朝157nm干式光刻机领域发起冲锋。

当前90nm制程靠的是193nm波长的干式光刻机,这一波长的光源极限就是65nm,几乎不可能再往下了。

业内在实验室中已经对此进行过了验证,要想继续往下,那就得换光源,产业界和学术界想了各种各样的办法,这些办法都指向了一个方向换光源,换波长更短的光源。

可以很明确的说如果没有林本坚,ASML一定会继续往干式光刻机方向发展,因为他们在2000年的时候收购了SVG,一家专注于157nm波长光源的公司,是在这一技术路线上最接近商业化量产的公司。

最高档,是五折,比如说原本的100条消息才可以解锁对方的全部信息,现在是50条。而1美元是9折,也就是说90条消息能解锁对方的全部信息。

这样的付费方式给了用户多样化的选择,甚至导致了很多额外的付费,比如说聊到80句的时候对方不回复我了,我为了继续聊下去为了找话题,去充一个当下可以解锁的会员,然后查看对方的具体信息后继续聊下去。

这样的付费方式前所未有,这种创新在当下令用户们眼前一亮,不仅没有被诟病,反而被大量用户认为这样很酷,符合年轻人的习惯。

加上脸聊故意在社区引导一种氛围,那就是你不是会员就不够酷,女生们对会员

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第二百八十六章 浸润式光刻机技术路线的独苗 (第2/3页)

后本坚当时就提出了如何突破这些瓶颈,里面就包括浸润法。当时的办法有很多,没有人注意到他的方法。

有点讲远了,刚刚说本坚在IBM不得志,是因为他在IBM的时候做的是深紫外光,而那时候IBM的光学部门主要研究方向是X光,这也导致他其实并没有那么得志。

不然他也不会在五十岁的时候申请IBM的内部退休创业。

因此本坚一直认为芯片制程想要突破,光源是关键,现在的光源是深紫外光,而要想从深紫外光到极紫外光,浸润法是关键。”

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