……

一直加到每秒2万，满足使用频率要求。

所有人都被震惊到麻木，依然是取得成功！

“再加，再往上加！”

每秒3万

向广林眼睛通红的大吼：“这意味着这台光刻机处理晶元的效率，至少艾思迈EUV的两倍以

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激光频率控制器。

高灵敏距离感应器。

还有这个什么器，那个什么装置，以及卫明叫不出专业名称的东西。

三天内他一共搞了十几个。

然后让蒲伟才他们，把这些装置，塞入到控制系统中，以极高精度要求，组装到了一起。

每秒4万

每秒4万5

每秒5万！

“锡滴释放频率达到上限，特么还是取得成功！”操作员毫无形象的狂喊。

“转化光强是额定光强的2.5倍！”

“每秒5500次试验成功，创造新的纪录！”

“再加！”

每秒7000

每秒9000

每秒1万

再开启了试运行。

“释放锡滴，初始频率每秒1滴。”蒲伟才进行指挥说道。

“开始释放。”

“两次击打成功，摊平形状完美，激发效果完美！”

“增加释放频率。”

“当然如果从岛国进口的相关零件，很快能到我们手中，可能三个月内，我们就能实现击打频率突破2万次。”

岛国？

三个月？

卫明摇头笑了笑，道：“缺什么零件，就交给我吧，我给你们捣鼓出来。”

接着他连续捣鼓了三天时间。

“每秒50次试验成功。”

“每秒500次试验成功！”

“每秒5150次试验成功！追平最高纪录。”操作员声音微颤的道。

“继续增加！往上加高一点！”

蒲伟才也开始激动了，这才第一次进行调试而已，居然就追平了上一套零件不断调试数百次创造的最高纪录？

第九十四章 光刻机比想象的容易 (第2/3页)

吟了一下，道：“还缺什么条件，阻止你们达到这个频率？”

“精度，控制系统的精度。”

蒲伟才说道：“如同一个时钟，同时精确掌控2万滴锡滴的自由下落，以及4万次的击打，时间上，每秒内的误差，不得超过十亿分之一秒；距离上，每秒不能超过1纳米，并且还要设计一套‘偏差纠正’系统，只要误差累积过大，就会自动纠正，让系统长期稳定的运转下去。”

“目前我们正在全力攻克控制系统，纠偏系统稍稍靠后，但也安排了团队进行攻关。”

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